超純水設備凈化法流程描述

超純水設備凈化法流程描述

　　電子、半導體工業(yè)的芯片生產(chǎn)在制作過(guò)程中，往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩定的話(huà)，會(huì )影響到后續工藝的處理效果和使用壽命。此外，晶元清洗和機械碾磨過(guò)程中都會(huì )產(chǎn)生廢水，造成對環(huán)境的污染。
　　通過(guò)使用超濾、反滲透、EDI和核子級離子交換系統來(lái)生產(chǎn)滿(mǎn)足需求的超純水。并將生產(chǎn)過(guò)程中所產(chǎn)生的廢水經(jīng)過(guò)膜系統的處理進(jìn)行回收再利用，在很大程度上減少了電子、半導體行業(yè)的用水量、降低了生產(chǎn)成本。
　　微電子行業(yè)包括了電解電容器生產(chǎn)、電子管生產(chǎn)、顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)、黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、液晶顯示器的生產(chǎn)、晶體管生產(chǎn)、集成電路生產(chǎn)、電子新材料生產(chǎn)等生產(chǎn)工藝，都需要工業(yè)超純水。傳統化學(xué)及介質(zhì)過(guò)濾生產(chǎn)超純水的方法，會(huì )因在水中添加各種化學(xué)劑，制備過(guò)程冗長(cháng)等各種因素造成產(chǎn)水的不穩定，無(wú)法確保長(cháng)期、穩定的超純水。
　　采用“物理”凈化法(超濾→反滲透→EDI→拋光混床)，使超純水設備從傳統的陽(yáng)離子交換器、脫碳、陰離子交換器、復合離子交換器等發(fā)生了一次革命，從此進(jìn)入了一個(gè)無(wú)需再生化學(xué)品的時(shí)代。膜法制備出來(lái)的工業(yè)純水，其純度可達到18MΩ·CM，且系統穩定，使用壽命長(cháng)，且生產(chǎn)過(guò)程所產(chǎn)生的廢水又可回用再生。
 

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