光學(xué)薄膜清洗用超純水設備zl-bm001

光學(xué)薄膜清洗用超純水設備

　　設備參數：
名稱(chēng)：光學(xué)薄膜清洗用超純水設備
型號：zl-bm001
操作壓力：5（Mpa）
水電阻率：18
出水量：1-100
外形尺寸：18000（cm）
電壓：380（V）
水質(zhì)：超純水
功率：130（w）
電導率：2
脫鹽率：90（%）
單機動(dòng)力：1-100（/h）
    光學(xué)薄膜清洗用超純水設備在設計上，采用成熟、可靠、自動(dòng)化程度高的兩級RO＋EDI＋精混床除鹽水處理工藝，確保處理后的超純水水質(zhì)確保處理后出水電阻率達到18.2 MΩ.cm。關(guān)鍵設備及材料均采用可靠產(chǎn)品，采用PLC控制，全套系統自動(dòng)化程度高，系統穩定性好。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經(jīng)濟合理。